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美国在全球科技领域施行“长臂管辖”已非一日。
以芯片和光刻机为例，这些技术被美国视为全球战略资产。
通过盟友网络和出口管制，美国掌握着全球高科技设备的流向，试图将中国阻挡在高端科技供应链之外。
然而，随着我国在被封锁状态下依然实现了DUV光刻机和先进制程的自主突破，这一切似乎打破了美国的如意算盘。
2024年，Quora上一则“为何中国敢在未获美国许可的情况下研发DUV光刻机”的提问，尽显美国网友对中国“违背规则”的不满。
然而这个“规则”背后，是美国习惯性的单边主义和控制欲。
事实上，在追求自我发展的过程中，我国并未挑战谁的权利，而是凭借自主创新不断突破制约，以实际行动证明美国的“长臂管辖”在中国根本行不通。
光刻机禁售
光刻机是生产半导体芯片的关键设备，特别是深紫外（DUV）和极紫外（EUV）光刻机，属于芯片生产的高端领域。
全球最先进的光刻机制造商ASML来自荷兰，正因为它的存在，欧洲成为了少数能在高端光刻技术上独占鳌头的地区。
美国则通过对ASML的零部件供应施加影响，迫使其对中国执行设备禁售。
这一策略表面上是美国的“国家安全”考量，实际上反映出美国在芯片领域对我国的遏制。
2020年，美国成功向荷兰施压，迫使ASML暂停对我国出口最先进的EUV光刻机。
这种设备对10nm及以下制程的芯片制造至关重要，主要应用于高性能芯片的制造。
然而，仅仅封锁EUV还不够，随着我国对中端DUV光刻机的进口需求扩大，美国再度施压，要求ASML彻底切断对华销售渠道。
最终，荷兰、美国、日本三国组成了“科技联盟”，加大对中国的芯片设备出口限制。
ASML陷入两难境地：作为企业，它追求的是全球市场的利润，而中国是其最重要的市场之一。
根据统计，中国市场约占ASML总营收的35%。
然而，美国的“长臂管辖”让ASML不得不以失去全球第二大市场为代价，加入对中国的封锁行动。
ASML总裁温宁克曾表示，“光刻机被用作政治工具将破坏全球产业链稳定”，但即便如此，荷兰政府仍迫于压力，对DUV光刻机的出口也设立了限制条件。
自主研发打破封锁
面对接连不断的技术封锁，我国并未退缩。
相反，光刻机的禁售促使我们加速技术自研。
早在2018年，我国便开始在上海微电子带领下投入DUV光刻机的研发。
虽然一开始被西方视为“不可能完成的任务”，甚至ASML还放言“即便公开图纸中国也造不出光刻机”，但我国的科研团队用实力证明了自主创新的韧性。
经过数年的技术攻关，上海微电子在2022年成功推出首台14nm制程DUV光刻机，虽不及EUV那般先进，但足以满足中低端芯片的需求。
这一突破填补了我国在光刻技术上的一大缺口，也让我们摆脱了对国外设备的绝对依赖。
这不仅是技术上的胜利，更是对美国“长臂管辖”打压政策的一次有力反击。
从光刻机禁售到自主研发
在技术封锁下的我国半导体行业，不仅没有被迫停滞，反而在自主研发上持续发力，且成果显著。
DUV光刻机的核心技术涵盖光源、镜片、双工作台等多个领域。
在自主研发过程中，我国完成了对7nm制程芯片技术的突破，这一进展让我们在芯片制造的多个层面实现了独立性。
尤其是DUV光刻机的成功，为国内中低端芯片供应链带来了保障，足以支撑我国在手机、计算机等领域的正常生产，削弱了美国对我国“卡脖子”战略的效果。
而今，ASML不得不重新审视对华策略，因为一旦我国光刻机成熟应用并投入国际市场，便会对ASML的垄断地位形成强力冲击。
这也是为何ASML高层在多次采访中提及，希望荷兰政府能对华出口策略采取灵活措施。
美国“长臂管辖”政策的局限性
从产业实际来看，美国的“长臂管辖”政策难以在我国取得实效，因为这种政策的实施条件依赖于其他国家的配合。
虽然美国通过盟友、供应链影响力在短期内形成了一定的遏制效果，但在我国长期自主创新策略下，其对高科技领域的封锁作用逐渐削弱。
例如荷兰、韩国的企业在美国施压下采取封锁政策，但在市场利益驱使下，正寻求绕开限制的出路；
与此同时，日本国内已有企业通过代工等方式，间接向中国市场提供支持。
近年来，美国在全球推行制裁政策的频率日益增加，包括对俄罗斯、伊朗等国家实施的经济封锁和技术禁运。
尽管这种“制裁外交”让美国在短期内取得了一定成果，但长期来看，制裁对象并未被压制，反而激发了其在各领域的独立自主发展，甚至走向多极化。
如今，我国已通过一系列自主创新和开放战略逐渐摆脱了技术封锁困境，未来，美国“长臂管辖”的成效恐将进一步下降。
美国的“长臂”能否继续伸长？
“长臂管辖”是美国在全球施行科技霸权的有力工具，但在我国的高科技领域，这一工具正失去效力。
从光刻机到芯片设备，我国用实践证明，创新是应对封锁的最佳武器。而美国的封锁政策不仅未能遏制中国的技术进步，反而让我们在挑战中加速成长。
这场科技竞争，美国想要扮演的“管辖者”角色或许将越来越难以实现。
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发表于 2024-11-3 10:15:00
